Reaktionsverhalten von Siliciumoberflächen in HF-basierten Ätzlösungen: Untersuchungen an Kristalloberflächen und Vergleich mit geeigneten Molekülsilanen (German Edition)
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| Preise | 2013 | 2014 | 2015 |
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Reaktionsverhalten von Siliciumoberflächen in HF-basierten Ätzlösungen
DE PB NWISBN: 9783838123448 bzw. 3838123441, in Deutsch, Südwestdeutscher Verlag Für Hochschulschriften, Taschenbuch, neu.
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buecher.de GmbH & Co. KG, [1].
Das Werk befasst sich mit grundlegenden Untersuchungen von Reaktionsmustern kristalliner Si- Oberflächen in HF-basierten Ätzlösungen. Ausgehend von industriell relevanten HF - HNO3 - H2O - Gemischen wurden HF/HNO3 - Konzentrationsverhältnisse, durch gelöste Stickoxide bedingte Folgereaktionen sowie pH-Werte als wichtige Steuerparameter identifiziert. Die in diesem Kontext zentrale Rolle von Nitrosylionen wurde durch Untersuchungen von spezifischen Reaktionsmustern an as-cut und hydrophobierten Si-Oberflächen sowie bei Umsetzungen mit Oligosilanen als Modellverbindungen bestätigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen der gasförmigen, flüssigen und festen Systemkomponenten gewonnenen Erkenntnisse liefern einen wichtigen Beitrag zum Verständnis nasschemischer Halbleiterätzprozesse. Auf dieser Grundlage erschließen sich neue Anwendungsfelder, beispielsweise für eine Aufarbeitung feinkörniger Si- Rohstoffe (Korngröße = 0,5 mm).2011. 288 S.Versandfertig in 3-5 Tagen, Softcover.
buecher.de GmbH & Co. KG, [1].
Das Werk befasst sich mit grundlegenden Untersuchungen von Reaktionsmustern kristalliner Si- Oberflächen in HF-basierten Ätzlösungen. Ausgehend von industriell relevanten HF - HNO3 - H2O - Gemischen wurden HF/HNO3 - Konzentrationsverhältnisse, durch gelöste Stickoxide bedingte Folgereaktionen sowie pH-Werte als wichtige Steuerparameter identifiziert. Die in diesem Kontext zentrale Rolle von Nitrosylionen wurde durch Untersuchungen von spezifischen Reaktionsmustern an as-cut und hydrophobierten Si-Oberflächen sowie bei Umsetzungen mit Oligosilanen als Modellverbindungen bestätigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen der gasförmigen, flüssigen und festen Systemkomponenten gewonnenen Erkenntnisse liefern einen wichtigen Beitrag zum Verständnis nasschemischer Halbleiterätzprozesse. Auf dieser Grundlage erschließen sich neue Anwendungsfelder, beispielsweise für eine Aufarbeitung feinkörniger Si- Rohstoffe (Korngröße = 0,5 mm).2011. 288 S.Versandfertig in 3-5 Tagen, Softcover.
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Symbolbild
Reaktionsverhalten von Siliciumoberflächen in HF-basierten Ätzlösungen (2015)
DE PB NW RPISBN: 9783838123448 bzw. 3838123441, in Deutsch, Südwestdeutscher Verlag Für Hochschulschriften AG Co. KG Mai 2015, Taschenbuch, neu, Nachdruck.
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This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware - Das Werk befasst sich mit grundlegenden Untersuchungen von Reaktionsmustern kristalliner Si- Oberflächen in HF-basierten Ätzlösungen. Ausgehend von industriell relevanten HF - HNO3 - H2O - Gemischen wurden HF/HNO3 - Konzentrationsverhältnisse, durch gelöste Stickoxide bedingte Folgereaktionen sowie pH-Werte als wichtige Steuerparameter identifiziert. Die in diesem Kontext zentrale Rolle von Nitrosylionen wurde durch Untersuchungen von spezifischen Reaktionsmustern an as-cut und hydrophobierten Si-Oberflächen sowie bei Umsetzungen mit Oligosilanen als Modellverbindungen bestätigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen der gasförmigen, flüssigen und festen Systemkomponenten gewonnenen Erkenntnisse liefern einen wichtigen Beitrag zum Verständnis nasschemischer Halbleiterätzprozesse. Auf dieser Grundlage erschließen sich neue Anwendungsfelder, beispielsweise für eine Aufarbeitung feinkörniger Si- Rohstoffe (Korngröße 0,5 mm). 288 pp. Deutsch.
This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware - Das Werk befasst sich mit grundlegenden Untersuchungen von Reaktionsmustern kristalliner Si- Oberflächen in HF-basierten Ätzlösungen. Ausgehend von industriell relevanten HF - HNO3 - H2O - Gemischen wurden HF/HNO3 - Konzentrationsverhältnisse, durch gelöste Stickoxide bedingte Folgereaktionen sowie pH-Werte als wichtige Steuerparameter identifiziert. Die in diesem Kontext zentrale Rolle von Nitrosylionen wurde durch Untersuchungen von spezifischen Reaktionsmustern an as-cut und hydrophobierten Si-Oberflächen sowie bei Umsetzungen mit Oligosilanen als Modellverbindungen bestätigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen der gasförmigen, flüssigen und festen Systemkomponenten gewonnenen Erkenntnisse liefern einen wichtigen Beitrag zum Verständnis nasschemischer Halbleiterätzprozesse. Auf dieser Grundlage erschließen sich neue Anwendungsfelder, beispielsweise für eine Aufarbeitung feinkörniger Si- Rohstoffe (Korngröße 0,5 mm). 288 pp. Deutsch.
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Reaktionsverhalten von Siliciumoberflächen in HF-basierten Ätzlösungen: Untersuchungen an Kristalloberflächen und Vergleich mit geeigneten Molekülsilanen (2011)
DE PB NWISBN: 9783838123448 bzw. 3838123441, in Deutsch, 288 Seiten, Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften, Taschenbuch, neu.
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Reaktionsverhalten von Siliciumoberflächen in HF-basierten Ätzlösungen
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Reaktionsverhalten von Siliciumoberflächen in HF-basierten Ätzlösungen: Untersuchungen an Kristalloberflächen und Vergleich mit geeigneten Molekülsilanen (2011)
DE PB NW RPISBN: 9783838123448 bzw. 3838123441, in Deutsch, Suedwestdeutscher Verlag fuer Hochschulschriften, Taschenbuch, neu, Nachdruck.
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