Silizium-Halbleitertechnologie - 8 Angebote vergleichen
Preise | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 |
---|---|---|---|---|
Schnitt | € 32,78 | € 32,99 | € 32,99 | € 32,99 |
Nachfrage |
1
Silizium-Halbleitertechnologie (2019)
DE PB NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, in Deutsch, Springer, Taschenbuch, neu.
Lieferung aus: Deutschland, Sofort lieferbar.
Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Taschenbuch, 18.01.2019.
Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Taschenbuch, 18.01.2019.
2
Silizium-Halbleitertechnologie - Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik
DE PB NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, in Deutsch, Berlin Springer Fachmedien Wiesbaden Springer, Taschenbuch, neu.
Lieferung aus: Deutschland, Versandkostenfrei.
Silizium-Halbleitertechnologie: Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, "tzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Taschenbuch.
Silizium-Halbleitertechnologie: Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, "tzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Taschenbuch.
3
Silizium-Halbleitertechnologie - Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik
DE PB NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, in Deutsch, Springer-Verlag Gmbh, Taschenbuch, neu.
Lieferung aus: Deutschland, Versandkostenfrei.
Silizium-Halbleitertechnologie: Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Taschenbuch.
Silizium-Halbleitertechnologie: Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Taschenbuch.
4
| Silizium-Halbleitertechnologie | Springer Vieweg | 7., überarb. u. erg. Aufl. 2019 | 2018
DE NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, in Deutsch, Springer Vieweg, neu.
Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert.
5
Silizium-Halbleitertechnologie
~DE NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, vermutlich in Deutsch, Springer, Berlin; Springer Fachmedien Wiesbaden, neu.
Lieferung aus: Deutschland, Sofort lieferbar, Versandkostenfrei innerhalb von Deutschland.
Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert.
Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert.
6
Silizium-Halbleitertechnologie (2019)
~DE PB NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, vermutlich in Deutsch, 7. Ausgabe, Springer Fachmedien Wiesbaden GmbH, Taschenbuch, neu.
Lieferung aus: Deutschland, Versandkostenfrei in der BRD, sofort lieferbar.
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Buch, Softcover, 7., überarb. u. erg. Aufl. 2019.
Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik, Buch, Softcover, 7., überarb. u. erg. Aufl. 2019.
7
Silizium-Halbleitertechnologie (2019)
~DE PB NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, vermutlich in Deutsch, Springer-Verlag GmbH, Taschenbuch, neu.
Lieferung aus: Deutschland, Versandkostenfrei.
Von Händler/Antiquariat, preigu [73689807], Osnabrück, Germany.
Die Beschreibung dieses Angebotes ist von geringer Qualität oder in einer Fremdsprache. Trotzdem anzeigen
Von Händler/Antiquariat, preigu [73689807], Osnabrück, Germany.
Die Beschreibung dieses Angebotes ist von geringer Qualität oder in einer Fremdsprache. Trotzdem anzeigen
8
Silizium-Halbleitertechnologie
~DE NW
ISBN: 9783658234430 bzw. 3658234431, vermutlich in Deutsch, neu.
Lieferung aus: Deutschland, 1-2 Werktage.
Die Beschreibung dieses Angebotes ist von geringer Qualität oder in einer Fremdsprache. Trotzdem anzeigen
Die Beschreibung dieses Angebotes ist von geringer Qualität oder in einer Fremdsprache. Trotzdem anzeigen
Lade…